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恒運昌科創(chuàng)板IPO：產品系刻蝕機、薄膜設備核心部件 成功助力晶圓廠可持續(xù)生產

2025/6/24 19:21:38      芯辰大海 周路遙

一家為北方華創(chuàng)、中微公司、拓荊科技等國內半導體設備龍頭企業(yè)提供核心部件的企業(yè)，正在向科創(chuàng)板發(fā)起沖擊。

近日，科創(chuàng)板受理了恒運昌的IPO申請。該公司主要圍繞等離子體工藝打造產品矩陣，自研產品包括等離子體射頻電源系統、等離子體激發(fā)裝置、等離子體直流電源等；同時還為晶圓廠提供等離子體射頻電源系統原位替換及維修等技術服務。

目前，恒運昌的產品獲得了市場的廣泛認同，客戶包括拓荊科技、中微公司、北方華創(chuàng)、微導納米、盛美上海等國內頭部半導體設備商，并已成為薄膜沉積、刻蝕環(huán)節(jié)國內頭部設備商的戰(zhàn)略級供應商。

等離子體工藝設備：構成刻蝕機、薄膜設備的核心部件

眾所周知，刻蝕機、薄膜設備是半導體制造的核心設備。但是你知道刻蝕機、薄膜設備的核心零部件有哪些么？等離子體工藝設備就是其中一種。

在介紹離子體工藝設備前，我們必須了解什么是等離子體。這是在特定條件下氣體電離而產生的區(qū)別于固、液和氣三態(tài)的物質第四態(tài)，閃電、火焰、太陽就是等離子體。等離子體由帶電粒子、中性粒子、自由基等組成，具有獨特的光、熱、電物理特性以及高活性、高能量的特點。

其中，刻蝕主要利用等離子體中的帶電離子，在電場中加速獲得了方向性，從而實現更精準地方向性刻蝕，能夠在極小范圍內有選擇性地去除目標材料而不損壞其他部分；還能實現刻蝕的垂直形貌和高深寬比的刻蝕通孔。

薄膜沉積主要利用等離子體的高活性，從而降低溫度，加快化學反應的速率，避免高溫對晶圓的損傷和副反應的出現。并且還有提升薄膜沉積速率，實現良好的附著性、超薄均勻鍍膜、高臺階覆蓋率的工藝效果。

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當然，等離子體工藝設備的應用領域并不止刻蝕和薄膜沉積兩個環(huán)節(jié)，還包括離子注入、清洗去膠、鍵合等環(huán)節(jié)以及光伏電池片的薄膜沉積、顯示面板鍍膜、精密光學鍍膜、常壓等離子體清洗等工業(yè)生產環(huán)節(jié)。

成功替代海外設備 為晶圓廠的可持續(xù)性生產提供保障

恒運昌招股書顯示，等離子體射頻電源系統在晶圓廠使用過程中會出現老化、故障等問題，需要及時進行維修、更換。但由于一些眾所周知的原因，國內主要晶圓廠被列入實體清單，無法向原海外設備供應商申請采購備件或維修服務，導致生產可持續(xù)性出現較大風險。

恒運昌強調，針對國內晶圓廠已斷供或難以維修的等離子體射頻電源系統產品，公司承接了中芯國際、長江存儲等晶圓廠的進口等離子體射頻電源系統的原位替換或維修任務，為國內晶圓廠的穩(wěn)定運轉和生產可持續(xù)性提供了堅實的保障。

具體來說，2021年，恒運昌向中芯國際交付Bestda等離子體射頻電源，實現了國內首顆刻蝕設備用射頻電源的原位替換。2022年，恒運昌Aspen系列等離子體射頻電源和Basalt系列匹配器在中芯國際晶圓產線上替代了CVD（化學氣相沉積）工藝設備中的海外等離子體射頻電源及匹配器產品。

除了為晶圓廠提供替換服務，恒運昌的等離子體工藝設備還被廣泛用于中微公司、拓荊科技的新一代薄膜設備、刻蝕機中。

近年來，恒運昌在等離子體工藝設備方面取得了巨大的進步，公司Bestda系列和最新一代產品Aspen系列均已通過驗證并量產，其中Bestda系列可支撐28納米制程，最新一代產品Aspen系列可支撐14納米先進制程，并已達到與MKS、AE次新一代產品同等的性能指標。

恒運昌強調，2023年，公司最新一代的Aspen系列等離子體射頻電源和Basalt系列匹配器已經隨拓荊科技新一代P系列薄膜沉積設備、中微公司新一代N系列刻蝕設備交付國內頭部晶圓廠，目前已經進入晶圓生產的正式驗證。